光学材料的干法刻蚀研究
上传用户：炬丰科技
上传日期：2020-12-22
文件类型：DOCX
文件大小：50.30K
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摘 要：本文对化学材料二氧化硅的干法刻蚀工艺进行研究，运用反应离子刻蚀设备对二氧化硅进行了刻蚀实验，通过对不同工艺条件下二氧化硅的刻蚀速
率、均匀性等参数对比，最终得出了二氧化硅等同类光学材料最佳的干法刻蚀
工艺条件。
率、均匀性等参数对比，最终得出了二氧化硅等同类光学材料最佳的干法刻蚀
工艺条件。
关键词： 光电 光学
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