电子产品世界

Inversion Semiconductor Inc.（加利福尼亚州旧金山）是一家 2024 年的初创公司，计划利用粒子加速为下一代光刻技术开发更亮、更可调的光源。

该公司表示，与现有系统相比，它将能够以高达 15 倍的速度制造芯片，并且具有更精细的功能。

Inversion 加入 Lace Lithography 是一家初创公司，希望取代或至少被视为成熟的光刻市场领导者 ASML Holding NV 的替代品。当然，这两家初创公司都看到了使用 13.5nm 波长的极紫外光进行光刻胶闪光曝光的进一步开发的挑战。

Inversion 的光刻方法基于使用一种称为激光尾流场加速 （LWFA） 的现象来创建紧凑的高功率光源。Inversion 预计 LWFA 可以将用于产生高能光的传统粒子加速器缩小 1,000 倍到桌面大小——即从几公里缩小到一米左右。这是 Inversion 的支持者 Y Combinator 创业加速器和风险投资公司的说法。

LWFA 利用强激光脉冲和等离子体之间的相互作用，在非常短的距离内将电子加速到极高的能量。这个过程类似于冲浪者在船后面乘风波：电子在等离子体波中“冲浪”并在行进过程中获得能量。

调低波长

Inversion 估计它可以使用 LWFA 在短距离内将电子加速到多个 GeV 的能量。然后，这些高能电子通过自由电子激光器，该激光器使用磁性结构使电子发射精确波长的相干光

Inversion 计划像传统的 EUVL 一样使用其先进的光源来投影图案，但光源可调谐至 13.5nm 或更低的波长，下一代目标为 6.7nm。此外，该公司声称，它可以在相同的数值孔径下将晶体管密度增加一倍，同时实现比当前机器高出三倍的吞吐量。光源也可能足够亮，可以照亮多个晶圆台，因此一个光源和四台或八台光刻机将进一步提高制造效率。

该公司由担任首席执行官的 Rohan Karthik 和首席技术官 Daniel Vega 创立。这两个项目在得到 Y Combinator 创业孵化器的支持之前被 Entrepreneur First 计划选中。Karthik 在英国利兹和伦敦帝国理工学院接受教育，而 Vega 在加利福尼亚州尔湾开始接受教育，但在伦敦大学学院度过了一年，并在欧洲粒子加速研究园区 CERN 进行了研究。

这两位企业家在旧金山 Y Combinator 大楼的地下室建立了一个激光实验室，并计划与劳伦斯伯克利国家实验室一起测试加速器原型。

关键词： Inversion Semiconductor 光刻技术

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