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据日媒报道，日本半导体代工企业Rapidus购入的第一台ASML EUV光刻机将于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台EUV光刻设备。

据Rapidus高管此前透露，该光刻机是较早期的0.33 NA型号，而非目前全球总量不足10台的0.55 NA（High NA）款。

按Rapidus此前的规划，该公司计划于2025年4月启动先进制程原型线，该产线将拥有包括EUV光刻机在内的共计200余台设备。根据千岁市当地政府的说法，Rapidus 的 IIM-1 晶圆厂截至上月底已完成63%的施工进度。

关键词： 日本 Rapidus 光刻机 ASML

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