力积电多层晶圆堆叠技术获AMD等大厂采用
自力积电官网获悉,力积电Logic-DRAM多层晶圆堆叠技术获AMD等美、日大厂采用,将结合一线晶圆代工厂的先进逻辑制程,开发高带宽、高容量、低功耗的3D AI芯片,发挥3D晶圆堆叠的优势,为大型语言模型人工智能(LLM_AI)应用及AI PC提供低成本、高效能的解决方案。
同时针对GPU与HBM(高带宽内存)的高速传输需求,力积电推出的高密度电容IPD的2.5D Interposer(中间层),也通过国际大厂认证,将在该公司铜锣新厂导入量产。

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