据外媒报道,目前,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。
俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已组装并制造了第一台国产光刻机,作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分,目前正在对其进行测试,该设备可确保生产350nm的芯片。什帕克还指出,到2026年将获得130nm的国产光刻机,下一步将是开发90nm光刻机,并继续向下迈进。
此前,俄罗斯曾表示,计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺,2027年实现28nm本土芯片制造,到2030年实现14nm国产芯片制造。