日本Rapidus计划2024年底引入EUV光刻机 时间:2023-12-07来源:SEMI 据日媒报道,日本芯片公司Rapidus表示,正在北海道建设芯片工厂,目标是2027年量产2nm制程芯片。该公司宣布,决定在2024年年底引入EUV光刻机,并将派遣员工赴荷兰阿斯麦学习EUV极紫外光刻技术。目标是今年派遣100名员工至IBM、阿斯麦学习先进芯片技术。 关键词: 日本 Rapidus 2nm 芯片制程 EUV光刻机 加入微信获取电子行业最新资讯搜索微信公众号:EEPW或用微信扫描左侧二维码 相关文章 日本新创Rapidus计划在2027年实现2 2024-07-25 消息称台积电本周试产 2nm 制程:苹果拿下 2024-07-15 三星宣布获首个2nm AI芯片订单 2024-07-12 台积电试产2nm制程工艺,三星还追的上吗? 2024-07-11 抢夺台积电2nm代工订单有多难? 2024-06-24 4nm→2nm,三星或升级美国德州泰勒晶圆厂 2024-06-20 可量产0.2nm工艺!ASML公布Hyper 2024-06-17 Rapidus与IBM达成合作,瞄准2nm 2024-06-11 查看电脑版