ITO表面处理方法
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王水/氧等离子体
27.7
4.6
6.0
氧等离子体/王水
>30.0
4.7
1.8
HCL
26.3
4.54
1.3
4 结束语
通过上面的对比发现，使用机械抛光法能得到最光滑的ITO表面，氧等离子体处理能得到功函数最高的ITO表面，UV臭氧处理的ITO表面电阻率最低。只有通过结合使用多种方法才能得到最佳性能的ITO表面。
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