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2.2模拟电路的低功耗设计

2.2.1模拟电路低功耗的限制条件

如前所述，在数字电路低功耗设计中，降低电源电压是等比例降低工艺中最常采用也是最有效的办法。但由于实际系统通常采用通用的数字电路工艺，而数字电路优化功耗的方案并没有考虑到对模拟电路功能的影响。对模拟电路而言，电源电压的降低对动态范围（Dynamic Range，DR）和功耗反而不利。

1基本限制条件

模拟信号电路所消耗的功率是为了维持信号能量超过基本的热噪声，达到给定的信噪比（Signal-to-Noise Ratio，SNR）。图2.2.1给出了一个典型的模拟信号处理电路示意图，它可以是一个放大器、滤波器、振荡器等。电路总的功率为



式中，I_DD为流过电源电压V DD的电流，V_PP是V_DD在电容C端产生的输出电压峰-峰值，ƒ为频率。



式（2.2.1）可知，当V_PP接近V_DD时，功率将有一个最小值。考虑到信噪比表达式



式中，k为玻尔兹曼常数（1.38×10^－23J/K），T为绝对温度。由式（2.2.1）和（2.2.2），可以得到



由式（2.2.3）可以看出，在给定的温度下，模拟电路所消耗的功率由电路工作频率（或给定的带宽）、信噪比、电源电压与信号峰-峰值之比所决定。显然，rail-to-rail（即V PP =V DD）电路的功耗最低，为



式（2.2.4）可以看出，在模拟电路中，在信噪比每增加10dB，最小功率的绝对值要增大十倍，而在数字电路中，要实现高信噪比，所牺牲的功耗远远低于模拟电路。还可以看出，式（2.2.4）表示的模拟电路低功耗基本限制条件是一个通用方程，它仅仅给出了功耗与信噪比、速度的关系，而对电压摆幅、电路结构、有源电路产生的噪声没有任何限制条件。对于给定的精度、增益和线性度，设计者总是希望得到一定的动态范围和速度，显然，仅仅用式（2.2.4）无法对不同的方案得出有用的比较结果。因此，设计面向应用的低压低功耗模拟电路之前，必须对实际局限性有较深入的认识，比如噪声和精度。

2实际限制条件

1）与噪声相关的功耗

基于噪声对模拟系统的性能有极大的影响，功耗优化必须考虑到电路中器件的噪声。如图2.2.2所示，在低频下，MOS管的噪声模型可分成两个相互独立的随机噪声：一个是热噪声，可用漏源间的电流源表征，另一个是闪烁（或称1/ƒ）噪声，可用与栅极串联的电压源表示。



定义热噪声的噪声功率谱密度（Power Spectral Density，PSD）为S_I，有

式中，G_TH表征晶体管热噪声电导，其大小与MOS管的工作区域有关。通常，可将热噪声电导变换为一个栅极热噪声电阻，即有



式中，g_m为器件跨导。

而闪烁噪声的噪声功率谱密度S_V，1/ƒ为



式中，ρ在给定的温度下是与工艺相关的常数。

在饱和区，通常可将热噪声和闪烁噪声统一为栅极的总噪声，此时可用一个与频率有关的噪声电阻定义：



结合式（2.2.6）和（2.2.8）可见，在给定的频率下，当跨导增加时，总输入噪声将下降，此时总噪声主要由1/ƒ噪声决定；而增大栅极面积时，总输入相关噪声将主要由热噪声组成。

电压信号处理电路中，可以用较常见的运算放大器（OperationalAmplifier，OPA）为例，来讨论噪声对电路功耗的影响。图2.2.3给出了具有有源负载的OPA结构，其中，C_L为输出端负载电容。



OPA的增益带宽（Gain Bandwidth，GBW）为



输入电压的噪声功率谱密度为



式中，NEF代表过剩噪声因子（Noise Excess Factor， NEF），为了降低噪声，输入对的跨导必须远大于有源负载的跨导，此时NEF接近1.利用噪声带宽的方法可以求得输出噪声功率，在跟随器结构中，增益G=1，则输出端的动态范围DR可以表示为



式中，分别为PMOS和NMOS的饱和电压。将式（2.2.9）和（2.2.10）代入，则有



由式（2.2.12）可见，降低电源电压将使输出端的DR急剧下降。当g_m =2I/（V_GS -V_TH）时，由式（2.2.9）和（2.2.12），得

在饱和区，最小的V_GS -V_TH值为2nU_T（其中U T =kT/q为热电压，室温下为26mV，n为亚阈值因子），而且在时，则由式（2.2.13）可得



式（2.2.14）给出了在给定的动态范围、增益和增益带宽条件下，OPA电路所需要的最小的功耗。它给出了所有重要的设计参数间的约束关系，对电路设计有着重要的指导意义。

2）与精度相关的功耗

模拟电路低功耗设计中，尤其是高速应用场合，必须要考虑精度。而在速度-功耗-精度的约束条件中，最重要的是器件参数的失配。解决失配的方法有失调补偿或是自调零（Auto-zero）技术。但这些补偿技术需要校准过程，在校准期间要中断系统的正常工作，将电路模块的失调电压取样后动态地放在存储器中。这将降低电路工作速度、增加额外的芯片面积以提供校准（Calibration）和复制（replica）电路。在许多高速低功耗电路中，系统通常不允许被中断，或者所需的连续工作时间太长，不能保证失调能及时被纠正。因此，通常认为精度完全是由工艺的匹配性能所决定，典型地，如在高速AD或在DA转换器中，位的精度和晶体管的匹配成正比。

通常，两个理想晶体管间的失配用两个参数来表征，一个是阈值电压失配V T₀≡V_T01 -V_T02，用标准偏差σ_VT来表示；另一个是电流增益系数β失配△β/β=（β₁ -β₂）/β，用标准偏差σβ来表示。它们普遍满足下式：



式中，A_VT0、A_β是与工艺相关的常数。

当晶体管为电压偏置时，器件的栅压相同而电流是变量；对于具有相同电流偏置的两个器件（如差分对），电压将相关变化。根据独立的失调分布，可以推出这种相关变化的分布：

MOS管工作在强反型时，式（2.2.16）变为



由式（2.2.17）可以看出，当变量为电流时，增加栅驱动电压可以提高精度。

这也证明了在电流模式电路中，为了达到最佳精度，必须将器件偏置在深饱和区。

与之相反的是，在电压模式电路中，为减小失调电压，必须尽可能地降低V_ov的值（令V_ov =V_GS-V_TH），通常可将此值设置在强反型边缘。

式（2.2.17）还可以看出，要提高电路精度，就需要大尺寸的器件，但与此同时，电路节点的负载电容也增加，为维持给定的速度，就需要更大的功耗。对于单端输入，工作在强反型饱和区的器件，增益带宽由下式决定



对于给定的V ov，定义式（2.2.17）中的电流精度为1/Acurracy²=[σ(△I_D)/I_D]^₂，电路所消耗的功率为P=IV_DD，则结合式（2.2.18），得到



式（2.2.20）给出的功耗-速度-精度的关系式，它表明在给定的电源电压下，功耗与电路精度的平方成正比，即意味着提高精度和提高速度相比，要付出更大的功耗代价。对于许多更加复杂的电路，如电流信号处理电路、差分对和运放等电压信号处理电路，甚至是多级电路中，式（2.2.20）仍然适用。

关键词： 数模混合电路 低功耗设计 电池管理