Vistec Lithography宣布与华中科技大签署战略合作伙伴协议

时间:2010-04-12来源:semiconductor

  电子束光刻系统的知名厂商Vistec Lithography公司近日宣布他们与中国武汉华中科技大学光电工程学院签署了战略合作伙伴协议。武汉华中科技大学是大陆国家级重点院校之一,而 Vistec Lithography则是电子束光刻设备的领先厂商,按协议规定,两家将在纳米光刻技术研究和教学领域开展合作。

  这次合作的核心是Vistec公司提供给华中科技大学的EBPG5000pES电子束光刻系统,装备这套系统之后,华中科技大学在教学,科研以及对外合作方面的实力将如虎添翼。华中科技大学称:“装备这种新型光刻系统之后,我们在光电领域的技术实力将大为增强.”

  电子束光刻设备可用于制作光掩膜或进行无需光掩膜的电子束直写光刻,直接在半导体材料上用电子束刻制所需的电路版图。

关键词: Vistec-Lithography 光刻 掩膜

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