短沟道MOSFET散粒噪声测试方法研究

时间:2009-12-16来源:网络

变阻器R1和R2均属于低噪声线绕电位器,最大阻值均为10 kΩ,分别用于栅源电压和漏源的调节。同时为了测试更加准确,变阻器R1和R2也一并置于液氮装置内,以降低其自身热噪声的影响。前置放大器采用美国EGG普林斯顿应用研究公司制造的PARC113型低噪声前置放大器,放大增益范围为20~80 dB,测试带宽为1~300 kHz,其背景噪声很低,满足实验的测试要求。
数据采集和噪声分析软件为“XD3020电子元器件噪声-可靠性分析系统”软件,它包含5大功能:噪声频谱分析、器件可靠性筛选、噪声分析诊断、时频域子波分析、时域分析。对于散粒噪声分析,主要用到噪声频谱分析模块。
通过具体测试对系统进行了验证。设置栅源电压为0.1 V,漏源电压为0.36 V,为了降低低频1/f噪声的干扰,提取电流噪声功率谱299~300 kHz高频段的平均值。如图2所示,从图中可以看出高频段是白噪声。在室温下,被测器件噪声幅值为1.2×10-15V2/Hz左右;而77 K时,在相同偏置条件下测试了样品的噪声,电流噪声幅值为1.5×10-16V2/Hz左右,对比室温和77 K时样品噪声,可以看出噪声幅值降了一个数量级,通过计算可知热噪声被减少大约90%,可见77 K时热噪声被明显抑制。同时测量了低温下系统的背景噪声,它的噪声幅值为4×10-17V2/Hz左右,而低温下样品的噪声幅值为1.5×1O-16V2/Hz,因此低温下系统背景噪声相对较小,可以忽略。本测试系统能满足低温下散粒噪声测试的要求。

2.2 测试方案
实验样品选用0.18μm工艺nMOSFET器件,沟道宽长比为20μm/0.6μm,栅氧化层厚度为20 nm,阈值电压为0.7 V。分别测试器件在亚阈区、线性区和饱和区的源漏电流散粒噪声功率谱。具体步骤为,设置Vgs=0.1 V,使器件处在亚阈值区,Ids在0.055~1 mA变化,测试器件在不同沟道电流下的电流噪声功率谱值;再设置Vgs=1.2 V,使器件工作在反型区,测试Ids在0.055~1.5 mA变化时线性区和饱和区的电流噪声功率谱值。在功率谱提取时,取270~300 kHz频率段电流噪声功率谱的平均值,这样既可以去除低频1/f噪声对测试结果的影响,也可以通过平均值算法使分析的测试数据更加准确。

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关键词: MOSFET 噪声测试 方法研究

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